金属表面加工技术中的化学气相沉积方法
利用气态化合物或化合物的混合物在基体材料表面（通常为热表面）上发生气相化学反应，从而在基材表面上形成镀膜的技术称为化学气相沉积。它的种类也非常繁多。
具体的化学反应类型包括歧化、聚合、还原、置换、氧化、氮化、（光或热）分解等。例如，气相的TiCl4与N2和H2在受热钢的表面形成TiN耐磨抗蚀沉积层（还原反应），气相的TiCl4与甲烷气体(CH4)在基材表面生成TiC（置换反应）等。
等离子体增强化学气相沉积(PCVD)，是利用直流或射频放电等离子体内的高能电子，激活反应气体分子使之离解或电离，从而获得在化学上非常活泼的激发分子、离子、原子或大量活性原子团等，并在基体表面上沉积镀膜的方法。通常CVD法使气态物质处于高温，经化学反应制备涂层，而PCVD法借助于等离子体作用，使化学反应得以进行，所以需要的温度相对低得多。
化学气相沉积（CVD） 化学气相沉积是利用气态物质在固体表面 上进行化学反应，生成固态沉积物。按照沉积化学反应能量激活分，可分为热CVD技术、等离子化学气相沉积技术（PCVD）、激光辅助化学气相沉积技术（LCVD）和金属有机化合物沉积（MOCVD）等。
美国将CVD用于紧固件模具，提高寿命3－5倍，日本[5]用CVD技术来沉积TiC和TiN于拉深凹模，提高寿命8倍。目前模具表面处理中应用较多的是PACVD，铝型材挤压模具和精密叶片热锻模具经过处理后，有较好的耐磨性和抗疲劳性，使用寿命提高一倍，由原来